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葛海雄
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所在大学:南京大学
所在院系:技术学院
所在地区:江苏
所在城市:南京
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葛海雄老师介绍
葛海雄 副教授
材料学方向
固体微结构物理国家重点实验室
联系电话:(025)83686053(实验室)
电子邮件:haixiong@nju.edu.cn
基本情况:
1999年,博士毕业于南京大学化学化工学院高分子专业。
2000年,中科院上海有机所做博士后。
2001-2003年,美国Princeton大学做博士后。
2004年至今,南京大学材料科学与工程系,副教授
教学:
讲授《光电功能材料》课程;
研究兴趣:
纳米微加工技术与材料;纳米压印材料与光刻胶材料;
可生物降解高分子材料;
光电功能高分子材料
科研项目:
国家自然科学基金项目“阳离子聚合型乙烯基醚紫外光固化纳米压印材料的研制与应用”
代表性论文:
1. Shen WJ, Ge HX, Chang J, et al. “Nanoscale electric lithography (NEL)” ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 231: - 92-COLL MAR 26 2006
2. Ge HX, Wu W, Li ZY, Jung GY, Olynick D, Chen YF, Liddle J A, Wang SY, and Williams RS “Cross-linked Polymer Replica of a Nanoimprint Mold at 30 nm Half-pitch” Nano Letters 2005, 5, 179-182.
3. Austin MD, Ge HX, Wu W, Li MT, Yu ZN, Wasserman D, Lyon SA, Chou SY,”Fabrication of 5 nm linewidth and 14 nm pitch features by nanoimprint lithography” APPLIED PHYSICS LETTERS 2004, 84, 5299-5301
4. Yu ZN, Gao H, Wu W, Ge HX, Chou SY “Fabrication of large area subwavelength antireflection structures on Si using trilayer resist nanoimprint lithography and liftoff” J. VAC SCI TECH B 2003, 2874-2877.
5. Xia QF, Keimal C, Ge HX, Yu ZN, Wu W, Chou SY “Ultrafast patterning of nanostructure in polymers using laser assisted nanoimprint lithography” APPLIED PHYSCIS LTEEERS 2003, 83, 4417~4419.
6. Yu ZN, Chen L, Wu W, Ge HX, Chou SY, “Fabrication of nanoscale gratings with reduced line edge roughness using nanoimprint lithography” J. VAC SCI TECH B 2003, 21, 2089~2092.
7. Wu W, Gu J, Ge HX, Keimel C, Chou SY, “Room-temperature Si single-electron memory fabricated by nanoimprint lithography” APPLIED PHYSICS LETTERS 2003, 83, 2268~2270.
8. Lei XY, Wu L, Deshpande P, Yu ZN, Wu W, Ge HX, Chou SY, “100 nm period gratings produced by lithographically induced self-construction” NANOTECHNOLOGY 2003, 14, 786-790.
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